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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200品牌
北京泰科诺产地
北京样本
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设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号:HF1200
真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷
真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm
真空系统:高真空泵组系统
基片台尺寸:Φ500mm?×600mm? 方形基片台(旋转、升降可选)
衬底温度:600 ~ 1100℃
电源:专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式
气路控制:4 路气体流量控制
控制方式:PC+PLC+ 触摸屏控制
占地面积:主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm
总功率:≥ 300kW
设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号:HF1200
真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷
真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm
真空系统:高真空泵组系统
基片台尺寸:Φ500mm?×600mm? 方形基片台(旋转、升降可选)
衬底温度:600 ~ 1100℃
电源:专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式
气路控制:4 路气体流量控制
控制方式:PC+PLC+ 触摸屏控制
占地面积:主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm
总功率:≥ 300kW
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