参考价格
面议型号
钙钛矿大面积蒸发设备ZDF3200品牌
北京泰科诺产地
北京样本
暂无看了钙钛矿大面积蒸发设备ZDF3200的用户又看了
虚拟号将在 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
1. 技术先进、设计优化,性价比高,性能稳定,使用维护成本低。
2.大面积,复合型,批量制备,洁净真空不同功能复合涂层制备,可获得更高电池转换效率。
3.广泛用于钙钛矿太阳能电池及复合功能薄膜材料制备等应用。
设备名称:钙钛矿大面积蒸发设备
设备型号:ZDF3200(单片/多片)
镀膜方式:线源蒸发
真空腔室结构:卧式方箱结构
真空腔室尺寸:L810mm×W700mm×H670mm(镀膜室)
极限真空:优于5.0x10-?Pa
基片台尺寸:330mm×420mm
基片温度:80℃以下
膜厚不均匀性:≤±5.0%(330mmx420mm范围内)
蒸发源:高低温线性蒸发源
膜厚监控系统:国产或进口多探头(可选)
控制方式:PLC + 触摸屏控制
占地面积:L3200mm×W2000mm×H1800mm
总功率:≥40KW
暂无数据!
电子束蒸发(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种形式,其中待蒸发材料被来自带电钨丝的电子束轰击,当电子束撞击目标材料时,它的能量转化为热能,使目标材料达到蒸发的状态
真空镀膜技术应用行业近年来发展迅速,在各个行业都有广泛的应用。真空镀膜技术用于表面改性和保护,以及提高产品的性能。该行业在设备、材料和工艺方面取得了重大进步,这导致了新涂层技术和应用的发展。在可再生能
本文详细探讨了磁控溅射过程中靶中毒这一关键问题。深入分析了靶中毒的现象、机理及对溅射过程和薄膜质量的严重影响。通过对反应气体、溅射功率、靶材与基底材料等多种因素的综合研究,揭示了靶中毒的成因。靶面金属
蒸镀技术作为一种重要的薄膜制备方法,在电子、光学、太阳能等众多领域得到了广泛应用。选择合适的蒸镀材料和蒸发装置是制备高质量薄膜的关键,直接影响到薄膜的性能、生产成本以及生产效率。本文深入探讨常见蒸镀材
北京泰科诺科技23年真空行业经验,独立研发的热丝法制备金刚石膜方法填补了国内行业空白,产品获得多项国家专利和认证。广泛适用于各大高校、科研院所和生产企业实现教学、研发和中试之目的。目前已初步实现产业化