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机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼
机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼

参考价格

面议

型号

101034

品牌

先丰纳米

产地

江苏

样本

暂无
江苏先丰纳米材料科技有限公司

金牌会员

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第11年

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  • 质量标准:

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  • 目数:

    10 mmx10 mm
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    一级
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货号CAS号编号包装参数
1010341317-33-5XFG161 盒基底尺寸: 10 mmx10 mm

产品名称中文名称: 机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼英文名称Mechanical exfoliation MoS2 on Al2O3 性质

形态:薄膜

参数

基底:氧化铝基底尺寸:10 mmx10 mm

MOS2面积: >10 ?m2

 

应用

先丰纳米**推出机械剥离制备的二硫化钼,相比较锂插层制备的单层类石墨烯材料,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料


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10分

售后服务

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